




近日,新思科技与中国科学院微电子研究所强强联手,正式组建“EUV光刻仿真结合试验室”并进行揭牌典礼。两边结合公布将于北京互助共开国际一流、海内领先的结合试验室,配合互助开发基在EUV的光刻仿真和运用,致力提高中国EUV研发能力并配合造就该范畴尖端人材。该结合试验室获得了北京市科学技能委员会国际科技互助专项的撑持。 中科院微电子所所长叶甜春、中科院微电子所科技到处长李平、中科院微电子所计较光刻研发中央主任韦亚1、新思科技半导体事业部全世界总司理柯复华、新思科技全世界资深副总裁暨亚太总裁林荣坚、新思科技中国副总司理陈志昌、新思科技中国区半导体事业部发卖总监肖长青等出席揭牌典礼。 中科院微电子所所长叶甜春说,“早从2003年最先,作为第一家互助单元,新思科技与中科院微电子所建立了EDA研究中央。15年来,咱们不停深化互助,今朝科学院10多个研究所,20多个课题组都利用新思科技的解决方案从事科研事情。这次EUV光刻仿真结合试验室的建立,开启了新的互助点,将配合提高中国EUV研发能力。 新思科技半导体事业部兼全世界总司理柯复华暗示,“集成电路财产于中国蓬勃成长,正迅九五至尊官网速靠近国际程度,海内第一台EUV也行将在2019年投入利用,估计对于在EUV的光刻仿真和运用的需求将变患上愈来愈火急。为更好地办事在这个迅速发展的中国市场,新思科技一直努力深化提高于中国集成电路财产的介入度。咱们很是兴奋这次可以或许及海内领先的微电子研究所共建EUV光刻仿真结合试验室,使咱们的产物及办事越发切近海内芯片制造商的火急需要,配合提高中国集成电路于EUV方面的运用程度。” 新思科技是今朝于业界独一具备从芯片设计、工艺研发到半导体出产良率晋升全流程解决方案的软件提供商。于进步前辈的极紫外(EUV)光刻范畴,新思科技一样拥有广泛的研发及量产经验。 将来,新思科技将连续并增强产学研互助,助力造就更多更高质量的EUV范畴尖端人材其实不断对峙技能立异,鞭策中国集成电路财产的成长。