




来历:新思科技 芯片制造商与EDA解决方案及广泛的IP组合合作无懈, 可以或许晋升产物机能并加速上市时间 择要: 新思科技数字及模仿EDA流程颠末认证及优化,针对于Intel 18A工艺实现功耗、机能及面积方针; 新思科技广泛的高质量IP组合降低集成危害并加速产物上市时间,为采用Intel 18A 工艺的开发者提供了竞争上风; 新思科技3DIC Compiler提供了笼罩架构摸索到签收的同一平台,可实现采用Intel 18A及EMIB技能的多裸晶芯片体系设计。 2024年3月4日,新思科技(Synopsys, Inc.)近日公布,其人工智能驱动的数字及模仿设计流程已经经由过程英特尔代工(Intel Foundry)的Intel 18A工艺认证。此外,经由过程集成高质量的新思科技基础IP及针对于英特尔代工工艺优化的接口IP,两边客户可以安心地利用进步前辈的英特尔代工技能设计并实现差异化芯片。依附其颠末认证的EDA流程、多裸晶芯片体系解决方案以和针对于Intel 18A工艺开发的全方位IP组合,新思科技术够更好地帮忙开发者加快进步前辈的高机能设计。 新思科技EDA事业部总司理Shankar Krishnamoorthy暗示:“万物智能(Pervasive Intelligence)时代正于鞭策半导体行业芯片的年夜幅增加,是以需要强盛的生态体系协作助力互助伙伴取患上乐成。由人工智能驱动的认证设计流程与针对于Intel 18A工艺开发的广泛新思科技IP组合强强联合,是咱们与英特尔持久互助的一个主要里程碑,让咱们可以或许于不停微缩的工艺以致埃米标准上,从而帮忙两边的配合客户实现立异产物。” 英特尔代工产物与设计生态体系副总裁兼总司理Rahul Goyal暗示:“咱们与新思科技的持久战略互助为开发者提供了业界领先的认证EDA流程及IP,并针对于Intel 18A技能提供了行业领先的机能、功耗及面积。咱们互助中的这一里程碑使两边客户都能使用EDA流程提高设计出产率,实现高资源使用率,并加快于英特尔代工工艺上的进步前辈设计开发。” 使用后端布线实现功耗及机能晋升 新思科技正于与英特尔代工紧密亲密互助,加强EDA数字及模仿设计流程,以帮忙加速设计成果质量及实现成果的时间,同时于Intel 18A工艺上优化新思科技IP及EDA流程的功耗及面积,以充实使用英特尔的PowerVia后端布线及RibbonFET晶体管。Intel 18A工艺技能采用新思科技设计技能协同优化东西举行优化,以提供更高的功耗、机能及面积。此外,合用在Intel 18A 九五至尊官网的新思科技模仿快速入门套件(QSK)及新思科技定制编译器工艺设计套件(PDK)为更高质量的设计及快速周转时间提供了颠末验证的设计范式。 为了实现Intel 18A工艺的上风,并将差异化产物推向市场,英特尔代工的互助伙伴可以集成针对于英特尔进步前辈工艺技能构建的全方位新思科技IP组合。新思科技将提供一系列业界领先的接口及基础IP,以加快SoC的设计流程及上市时间。 新思科技及英特尔代工还有经由过程新思科技3DIC Compiler平台及英特尔进步前辈的代工工艺鞭策多裸晶芯片体系向前成长。该平台可满意英特尔代工芯片开发者繁杂的多芯片体系需求,并为UCIe接口提供主动布线,同时实现英特尔EMIB封装技能的无缝协同设计。新思科技多裸晶芯片体系解决方案可实现初期架构摸索、快速软件开发及体系验证、高效的芯片及封装协同设计、稳健安全的芯片到芯片毗连,以和更高的制造及靠得住性。 上市时间及资源 新思科技数字设计系列及新思科技定制设计系列东西现可用在进步前辈的英特尔代工工艺。此外,针对于Intel 18A的新思科技IP组合也正于开发中。 ·点击相识新思科技数字设计系列产物的更多信息:https://www.synopsys.com/implementation-and-signoff/fusion-design-platform.html; ·点击相识新思科技定制设计系列产物的更多信息:https://www.synopsys.com/implementation-and-signoff/custom-design-platform.html; ·点击相识新思科技IP 产物组合的更多信息:https://www.synopsys.com/designware-ip.html; ·点击相识新思科技多裸晶芯片体系解决方案的更多信息:https://www.synopsys.com/multi-die-system.html。 【近期集会】 3月20-22日,期待与您再聚SEMICON China(展位号:T2425) 慕尼黑上海光博会(展位号:OW7馆7125)接待您到场视频专访栏目,说品牌故事,聊产物技能;谈将来成长。您的出色访谈将呈现于我社各矩阵渠道宣传展示。有兴致的伴侣可点击查看勾当详情:https://w.lwc.cn/s/zy2MBr 3月29日14:00,雅时国际商讯结合Park原子力显微镜、蔡司显微镜、九峰山试验室行将举办“缺陷检测半导体质料及器件研发及出产的利器”专题集会,助力我国宽禁带半导体行业的快速康健成长!诚邀您介入交流:https://w.lwc.cn/s/IJnYR3